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第82章 双管齐下继续推进硅电晶体研製工作（第2页）

“汤教授，您请继续。”

闻言，汤定远道：

“江教授为我们介绍过光刻胶的作用。”

“它直接决定。”

“集成电路的最小特徵尺寸、良率和工艺复杂度—”

他说完后。

迟疑了片刻。

接下来的话，等於是在反对江阳提出的方案。

这时，江阳笑道：

“汤教授，如果您有更好的方法，但说无妨。”

汤定远点了点头，道：

“那我就直说了。”

“根据我的研究，使用天然沥青+溶剂，解析度极低。”

“最后很大概率无法满足我们的研製需要—”

沥青胶是负性光刻。

紫外线引发交联反应，形成三维网格结构后。

曝光区域变得难溶於溶剂，且会被溶剂渗透，引发溶胀。

虽说面前也能实现光刻。

但结果几乎是可以预见的不如人意。

汤定远说完后，又道：

“原本我也不觉得有问题。”

“毕竟光刻对我们所有人来说，都是个新东西。”

“但江教授的一句话，给了我启发。”

“如果让曝光区域发生光解反应，效果会不会更好——”

听完汤定远的想法后，眾人陷入沉思。

江阳面色不变。

心中却惊讶不已，暗道：

“不愧其中，能一句话中想出这么多的东西。”

汤定远，华国半导体学科创始人之一。

还是红外技术研究的奠基人。

曾以三份书信，重塑华国红外事业的战略眼光，研究能力毋庸置疑。

这时。

下面一个和汤定远差不多年纪的中年男人，道：

“汤教授，您说得確实有道理。”

“但沥青胶我们好歹知道是什么。”