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第110章 近接式光刻机微米级微调机构（第4页）

听说过接触式光刻的理论。

但目前来说，还没有一个很好的应用。

江阳道：

“不完全是。”

“接触式光刻其实存在个明显的缺陷。”

“近距离的物理接触，会导致掩膜的损失，大大降低寿命。”

他说完后。

林嵐因、黄琨和王寿吾，陷入沉思。

不採用接触式的话。

就完全没有可以依照的理论，只能摸著石头过河。

就在这时。

江阳继续道：

“所以我们需要保留掩膜与晶圆间微小的间隙。

“

“没有物理接触。”

“自然能有效地提掩膜的使用寿命。”

林嵐因道：

“可是这样的话，恐怕需要更高的曝光时间。

，“而且间隙控制。”

“没有够精度的调整机构，恐怕难以做到。”

江阳没有立刻回应。

而是默默地將手伸向隨身的挎包。

然后在三人果然如此的眼神中，拿出调整机构的研究方案。

林嵐因正想接过。

一旁的王寿吾忽然道：

“咦，江教授，您这次的案內容，以前多了很多啊！”

他说完后。

林嵐因何黄琨看著研究方案，也觉得不对。

就算是研製计算器时。

江阳都只给了大体的框架和简单的方向。

一个调整机构。

再难应该也不至於，需要这么多的稿纸去阐述研究方案。

江阳道：

“其实这里有两套方案。”