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第136章 近接式光刻机成功集成电路突破（第3页）

但江阳反倒很平静，问道：“测试的数据怎么样？”

王志坚道：“光强波动≤±5%、清晰成像2μm线宽————”

他不断地。

念出各项数据。

每说出一个，大家脸上的笑容，都更深一分。

江阳听完后，道：“雷射干涉仪刚成功，工作檯运动精度，还有提高空间。

“使用的光刻胶。”

“目前也只是勉强满足需求，显影后测量残留胶————”

他说著说著。

忽然感觉周围非常安静。

抬头看去。

只见每个人，都拿出纸笔，开始记录。

见状。

江阳怔了怔，转而道：“但这些都可以慢慢去突破。”

“我们现在。”

“在世界半导体领域，应该处於领先地位了。”

听到最后的这句话。

所有人手中的笔，都停了下来。

他们望向实验室操作台上的近接式光刻机，目光恍惚。

——领先。

这个词在华国。

好像已经有一百多年，没有出现。

他们是落后的。

所以挨了很多的打，了很长的时间，付出了很多的牺牲。

正是因为这血的教训。

他们才要研究、要追赶、要反超！

想到这里。

实验室內的所有人，眼眶都有些微微泛红。

他们，做到了。

王寿吾看向江阳，郑重道：“江教授，我们马上开始集成电路的突破吧！”

“有了它！”

“我相信我们这次一定能够突破100集成度！”

他说完后。

其他研究人员，也是纷纷点头。

光刻机只是开始。